Advantest-E-Beam Lithography (Model:F5113)

0
180
Vui lòng liên hệ với chúng tôi– chúng tôi sẽ liên hệ lại với khách hàng bằng điện thoại hoặc email.
Lưu ý: Tham khảo ý kiến của nhân viên INO sẽ giúp bạn tiết kiệm được thời gian và chi phí khi cần mua sắm. ​​Với sự tư vấn của chúng tôi, bạn sẽ không gặp khó khăn khi tìm hiểu về đặc tính của sản phẩm cần mua.

 Low-Cost, High Throughput EB Lithography Tool Supports Ultrafine Pattern Fabrication for Diverse Substrates

The F5113 is an electron-beam lithography system supporting 200mm and 3-inch through to 6-inch substrates, making it an optimal tool for processing advanced LSIs, compound semiconductor wafers, magnetic heads, smart power devices, photonics devices, MEMS, and other devices requiring ultrafine-pitch fabrication.
The F5113's character projection (CP) functionality offers high resolution, excellent pattern fidelity, and high throughput. High-speed pattern exposure with CP enables a broad range of applications, including materials R&D and evaluation.
Advantest's proprietary self-cleaning technology massively improves the stability of the electron beam used by the F5113, contributing to higher utilization ratios and lower customer running costs across the spectrum of applications

  • Can be easily adjusted to handle diverse substrates (inquire for details)
  • High accuracy, high throughput
  • Self-cleaning functionality
Supported Substrates 200mm, 3-inch to 6-inch
Beam Acceleration Voltage 50kV
Lithography Methods CP, VSB
Reduction Ratio of CP Projection 60x
Supported Nodes 90nm and below (Smallest node supported varies by application. Inquire for details.)
Lưu ý: Nếu một thiết bị nào đó không được liệt kê ở đây, điều đó không có nghĩa rằng chúng tôi không hỗ trợ được bạn về thiết bị đó. Hãy liên hệ với chúng tôi để biết danh sách đầy đủ về thiết bị mà chúng tôi có thể hỗ trợ và cung cấp.
INO: Bán, Báo giá, tư vấn mua sắm và cung cấp, tư vấn sản phẩm thay thế; tương đương, hướng dẫn sử dụng, giá…VNĐ, …USD info@ino.com.vn | Tel: (+84) 028 73000184 | Advantest-E-Beam Lithography (Model:F5113).